Sistema de deposição de filmes Prest Vácuo – Evaporadora
O equipamento conta com duas modalidades de obtenção de filmes finos em um mesmo sistema: deposição por Evaporação e deposição por R.F. Magnetron Sputtering.
Para o modo de deposição por Evaporação, o sistema conta com 4 pontos para cadinhos independentes, que permite o processo de deposição de multicamadas sem a necessidade de ser aberto. Além disso, o controle de corrente e tensão dos cadinhos são independentes. É possível realizar o controle da espessura dos filmes in situ no modo de evaporação com um medidor de espessura tipo balança de quartzo. A câmara possui termopar e permite o aquecimento do substrato baseado em lâmpadas até 180°C.
Para o modo de deposição por Sputtering, o equipamento utiliza um magnetron do tipo TORUS que permite a deposição de materiais a partir de alvos de 4 polegadas de diâmetro x 0.250 polegadas de espessura. Trata-se de um sistema muito versátil já que permite realizar a deposição de diferentes filmes finos, como isolantes, condutores ou semicondutores, além de compósitos e ligas. O sistema permite a deposição com porta amostras estático ou dinâmico. No sistema dinâmico o porta-amostras rotaciona com velocidade controlada através do painel de controle do equipamento, o que permite uma deposição de um filme homogêneo em áreas grandes.
O sistema permite deposição de filmes no modo reativo a partir do uso de gases de interesse para reação durante a deposição. Atualmente o sistema conta com a entrada de dois gases: argônio (Ar) para deposição do material do alvo puro e nitrogênio (N2) para reação com o material do alvo a ser depositado.
Para refrigeração/circulação do TORUS utiliza-se um sistema de circulação de água com um chiller com filtro magnético de partículas. O sistema de vácuo é constituído de uma bomba de pré vácuo de duplo estágio, uma bomba turbomolecular e medidores de pressão. O equipamento possui um sistema de válvulas pneumáticas e o controle de pressão nas mesmas é feito utilizando um compressor de ar.